国家知识产权局信息显示,华美晶科技有限公司申请一项名为“功率半导体元件以纳米双晶铜对铜接合件的扩散接合方法”的专利,公开号CN121034980A,申请日期为2025年8月。
专利摘要显示,一种功率半导体元件以纳米双晶铜对铜接合件的扩散接合方法,主要通过于一晶片上电镀形成一层纳米双晶铜电镀层,接着对晶片及一铜接合件分别进行清洗后,将晶片与铜接合件于一夹合压力下进行一加热处理,并在390~450℃持温加热至少20分钟,即可使纳米双晶铜电镀层与铜接合件的接合面形成共晶接合,并借此即可确保其接合强度,且同时具有耐高温与高可靠度的功效。
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