国家知识产权局信息显示,武汉二进制半导体有限公司申请一项名为“一种EFLASH的安全访问方法及系统”的专利,公开号CN121255673A,申请日期为2025年9月。
专利摘要显示,本公开涉及MCU芯片设计技术领域,提供了一种EFLASH的安全访问方法及系统,方法包括:请求预处理模块接收访问请求,判断请求访问的地址范围与敏感地址表中的地址是否有重合;若是,则根据访问地址范围,分发访问请求到对应的滑动窗口保护模块;若否,则分发访问请求到动态识别模块;滑动窗口保护模块统计对应的敏感地址在当前时间窗口内被访问的次数;若超过设定次数,则触发在当前时间窗口内拒绝访问该敏感地址的访问请求;反之,则将访问请求发送给动态识别模块;动态识别模块根据历史访问记录中的访问类型和访问次数,判断访问请求是否为敏感请求,是则禁止;否则允许。能够对敏感区域进行控制,对异常行为进行有效拦截。
天眼查资料显示,武汉二进制半导体有限公司,成立于2022年,位于武汉市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本104830万人民币。通过天眼查大数据分析,武汉二进制半导体有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目14次,财产线索方面有商标信息2条,专利信息55条,此外企业还拥有行政许可2个。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
来源:市场资讯