北京矽瓷新能申请生产半导体级高纯石英砂反应设备涂层制作工艺专利，用于生产半导体级二氧化硅产品不会因涂层造成产品污染
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2025-06-17 09:37:16
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金融界2025年6月17日消息，国家知识产权局信息显示，北京矽瓷新能科技有限公司申请一项名为“一种生产半导体级高纯石英砂的反应设备涂层的制作工艺”的专利，公开号CN120157464A，申请日期为2025年03月。
专利摘要显示，本发明提供了一种生产半导体级高纯石英砂的反应设备涂层的制作工艺。本发明采用以二氧化硅为主材料，氧化钠和氧化钙为助熔材料，再添加适量的稳定剂氧化铝、氧化硼、氧化镁、氧化锌等材料，经过高温烧结，水击粉碎得到原粉。再经过多次喷涂，高温烧结等程序后放置十五天以上，再经过硝酸酸洗。做成的设备涂层，用于生产半导体级二氧化硅产品不会因为涂层造成产品污染，使得产品指标降低。
天眼查资料显示，北京矽瓷新能科技有限公司，成立于2019年，位于北京市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本732.4682万人民币。通过天眼查大数据分析，北京矽瓷新能科技有限公司共对外投资了1家企业，财产线索方面有商标信息5条，专利信息6条，此外企业还拥有行政许可2个。
来源：金融界
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