盛吉盛半导体申请晶片处理腔室平衡度测定及调节专利，可提高工作有效性
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2025-06-23 18:09:47
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金融界2025年6月23日消息，国家知识产权局信息显示，盛吉盛（韩国）半导体科技有限公司申请一项名为“晶片处理腔室用内置型平衡度测定装置及利用其的平衡度调节方法”的专利，公开号CN120184038A，申请日期为2024年07月。

专利摘要显示，本发明涉及晶片处理腔室用内置型平衡度测定装置及利用其的平衡度调节方法，更详细地涉及包括设置于晶片处理腔室的底面的传感器部及从上述传感器部接收信息，测定加热器的平衡度的控制部，在测定前后不需要设置及搬出过程，可进行精密测定，不需要腔室的开闭过程，可提高工作的有效性，同时还提高腔室的耐久性的晶片处理腔室用内置型平衡度调节装置及利用其的平衡度调节方法。

来源：金融界

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