昆山国音取得半导体晶元稳定清洗的超声波清洗装置专利，可去除半导体晶元表面可能残留的清洗液或化学成分
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2025-06-27 15:40:07
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金融界2025年6月27日消息，国家知识产权局信息显示，昆山国音超声波工业设备有限公司取得一项名为“一种半导体晶元稳定清洗的超声波清洗装置”的专利，授权公告号CN223027986U，申请日期为2024年08月。
专利摘要显示，本实用新型涉及半导体晶元加工技术领域，尤其涉及一种半导体晶元稳定清洗的超声波清洗装置，包括底座，所述底座两侧内壁均滑动连接有滑块，两个所述滑块侧壁之间固定连接有框体，所述底座两侧内壁均设置有凹槽；活动板，所述活动板内部设置有腔体，所述活动板下端等距设置有多个孔洞。滑块带动框体向下滑动，滑块向下滑动时，滑槽对滑块进行限位，避免滑块滑动时错位，使得框体与半导体晶元浸泡于清洗液内部，然后超声波发生器运作，再配合清洗液对半导体晶元进行清洗，腔体内部的清水由多个孔洞喷出至半导体晶元表面，从而对半导体晶元进行二次清洗，去除半导体晶元表面可能残留的清洗液或化学成分。
天眼查资料显示，昆山国音超声波工业设备有限公司，成立于2010年，位于苏州市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本200万人民币。通过天眼查大数据分析，昆山国音超声波工业设备有限公司参与招投标项目1次，专利信息20条。
来源：金融界
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