拉普拉斯半导体申请排气装置专利,显著减少传统双独立排气系统的空间占用
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2025-08-06 13:17:52
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金融界2025年8月6日消息,国家知识产权局信息显示,拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司申请一项名为“排气装置”的专利,公开号CN120426429A,申请日期为2025年05月。

专利摘要显示,本申请涉及半导体工艺设备技术领域,尤其涉及一种排气装置。排气装置包括壳体和排气机构,壳体具有相互分隔的第一腔室和第二腔室,壳体具有排气区域,第二腔室的排气口设于排气区域。排气机构包括排气管和气阀组件,排气管连通第一腔室,且排气管的出气口位于排气区域;气阀组件设于排气区域,并可同时控制第二腔室的排气口和排气管的出气口的流通面积。将第一腔室和第二腔室的排气功能集成于同一壳体的排气区域,通过共享排气机构,统一控制,显著减少了传统双独立排气系统的空间占用,提高了设备内部的空间利用率。

天眼查资料显示,拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司,成立于2021年,位于广州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析,拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司参与招投标项目2次,专利信息68条,此外企业还拥有行政许可5个。

来源:金融界

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