半导体行业近日曝出重大商业间谍案。台积电前员工与日本半导体设备巨头东京电子(TEL)现雇员勾结,通过系统化手段窃取台积电2nm制程工艺核心机密,涉案人员达9人,其中3人已被羁押,案件现已进入司法程序。这起横跨中日两国的技术泄密事件,不仅折射出尖端半导体技术的安保挑战,更暴露出全球芯片产业链中隐秘的技术争夺战。
千张照片泄露核心工艺
据调查,涉案的台积电前员工离职后加入东京电子,随后策反仍在台积电任职的同事,通过拍摄设备照片等方式盗取2nm工艺技术细节。异常数据流量触发台积电内部监控系统警报,最终查获上千张涉及关键制程参数的照片。作为对比,台积电2nm工艺原计划2025年量产,采用革命性的纳米片晶体管(GAAFET)结构,其技术泄密可能直接影响未来三年全球高端芯片市场的竞争格局。
日企两度"负荆请罪"未果
案件曝光后,东京电子表现出强烈的危机公关意识。早在6月司法程序启动前,该公司便派遣高管赴台积电向执行副总秦永沛致歉,但台积电坚持法律维权立场。最新消息显示,东京电子正筹备由社长率队展开第二轮高层斡旋。这种罕见的外交式危机处理,凸显出台积电作为全球晶圆代工龙头的话语权——东京电子约15%的年营收来自台积电设备采购,其刻蚀设备在3nm/2nm产线中具有不可替代性。
技术霸权背后的博弈
业内人士分析,双方最终可能达成包含经济赔偿、设备折扣在内的妥协方案。东京电子已迅速开除涉案员工划清界限,但半导体设备商的特殊地位使其与台积电的关系呈现微妙平衡:既存在技术依存,又暗藏竞争。此次事件或促使晶圆厂加强"数字水印"等新型反泄密技术,而2nm工艺的提前曝光可能加速三星、英特尔等竞争对手的研发进程,重塑全球先进制程竞赛的时间窗口。