合肥晶合集成申请暗电流检测结构及图像传感器暗电流检测方法专利，提高暗电流检测结构的工作动态范围_电子技术

合肥晶合集成申请暗电流检测结构及图像传感器暗电流检测方法专利，提高暗电流检测结构的工作动态范围

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2025-12-01 09:36:46

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国家知识产权局信息显示，合肥晶合集成电路股份有限公司申请一项名为“暗电流检测结构及图像传感器的暗电流检测方法”的专利，公开号CN121037555A，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本申请涉及一种暗电流检测结构及图像传感器的暗电流检测方法，所述结构包括检测单元和多个并联设置的像素单元；像素单元用于收集暗电流；检测单元包括暗电流放大模块和若干个控制晶体管，控制晶体管的源极与多个像素单元的漏极相连，控制晶体管的漏极为用于储暗电流的电子存储库节点，且电子存储库节点与暗电流放大模块的输入端相连；在进行暗电流检测的过程中，像素单元将收集的暗电流传输至控制晶体管，电子存储库节点存储或输出暗电流，暗电流放大模块对电子存储库节点输出的暗电流进行放大，且暗电流放大模块的输出端输出放大后的暗电流。本申请实现了针对图像传感器的暗电流检测，提高了暗电流检测结构的工作动态范围和稳定性。

天眼查资料显示，合肥晶合集成电路股份有限公司，成立于2015年，位于合肥市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本200613.5157万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥晶合集成电路股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目632次，财产线索方面有商标信息41条，专利信息1435条，此外企业还拥有行政许可22个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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