国家知识产权局信息显示,重庆芯联微电子有限公司申请一项名为“一种具备光敏栅极的射频MOS器件及高速光电探测电路”的专利,公开号CN121310670A,申请日期为2025年9月。
专利摘要显示,本发明提供一种具备光敏栅极的射频MOS器件及高速光电探测电路,在传统的射频MOS的栅极上集成光敏层以形成光敏栅极,当近红外光信号照射至光敏栅极时,其产生的电子‑空穴对能够改变栅极电压,进而调制沟道电流,且短沟道区的设计有助于提升器件的截止频率,此外,T形形状的光敏栅极能够增加光敏层接收光信号的面积,从而提升器件的灵敏度并进一步降低器件的寄生电容,大幅度提高了射频MOS器件的带宽,仿真测试结果表明,在10GHz内噪声系数仅为0.8~1.2dB,远远低于传统的PIN或APD结构,将具备光敏栅极的射频MOS器件应用在高速光电探测电路时,其需要的工作偏压也远远低于传统PIN或APD结构,并且能够与CMOS工艺兼容,满足高速光通信系统的低功耗和高密度集成需求。
天眼查资料显示,重庆芯联微电子有限公司,成立于2023年,位于重庆市,是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本870000万人民币。通过天眼查大数据分析,重庆芯联微电子有限公司参与招投标项目933次,专利信息217条,此外企业还拥有行政许可12个。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
来源:市场资讯