国家知识产权局信息显示,沐曦集成电路(上海)股份有限公司申请一项名为“一种纹理采样系统”的专利,公开号CN121724826A,申请日期为2026年2月。
专利摘要显示,本申请涉及图形渲染技术领域,特别是涉及一种纹理采样系统,该系统在第一寻址方式下,通过第一参考阈值和第二参考阈值来灵活调节纹理采样时的边界,进而提高纹理采样的灵活性,且第一参考阈值和第二参考阈值可以由用户自行配置,进一步提高了纹理采样的灵活性,在第二寻址方式下,通过修正尺寸来灵活调节纹理采样结果的位置,进而提高纹理采样的灵活性,且修正尺寸也可以由用户自行配置,进一步提高了纹理采样的灵活性,而且,无需对纹理图像作特殊处理,在保证纹理采样的效率不损失的情况下,有效提高了纹理采样的灵活性。
天眼查资料显示,沐曦集成电路(上海)股份有限公司,成立于2020年,位于上海市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本40010万人民币。通过天眼查大数据分析,沐曦集成电路(上海)股份有限公司共对外投资了24家企业,参与招投标项目8次,财产线索方面有商标信息63条,专利信息382条,此外企业还拥有行政许可5个。
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来源:市场资讯