芯晟半导体取得真空度检测用离子规防污装置专利，能够减少污染物对离子规内部造成污染
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2026-04-11 22:38:46
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国家知识产权局信息显示，浙江芯晟半导体科技有限责任公司取得一项名为“一种真空度检测用离子规防污装置”的专利，授权公告号CN224108975U，申请日期为2025年4月。
专利摘要显示，本实用新型涉及一种真空度检测用离子规防污装置，其特征在于，包括外壳，所述外壳与机台一体连接，所述外壳内设有减少污染物回流的单向流通结构，所述单向流通结构包括主通道和多级分支通道单元，所述主通道沿流体流动方向延伸并在两端形成与离子规连接的入口端和与机台内部腔室连通的出口端，所述多级分支通道单元由至少一对中心对称的分支通道构成，所述分支通道以分叉角度从主通道分叉并重新汇合形成闭合回路。本实用新型具有以下优点和效果：能够减少污染物对离子规内部造成污染。
天眼查资料显示，浙江芯晟半导体科技有限责任公司，成立于2023年，位于嘉兴市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本202000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江芯晟半导体科技有限责任公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目169次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息47条，此外企业还拥有行政许可8个。
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来源：市场资讯
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