上海铭锟半导体取得光刻拼接偏差检测及补偿方法专利
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2025-05-28 13:03:47
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金融界2025年5月28日消息，国家知识产权局信息显示，上海铭锟半导体有限公司取得一项名为“一种光刻拼接偏差的检测方法及补偿方法”的专利，授权公告号CN119200340B，申请日期为2024年08月。
天眼查资料显示，上海铭锟半导体有限公司，成立于2021年，位于上海市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本1072.2222万人民币。通过天眼查大数据分析，上海铭锟半导体有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目5次，专利信息29条，此外企业还拥有行政许可1个。
来源：金融界
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