大尘微影申请一种金属化陶瓷结构及半导体量测设备专利，减小产品尺寸
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2025-05-29 09:05:43
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金融界2025年5月29日消息，国家知识产权局信息显示，上海大尘微影半导体科技有限公司申请一项名为“一种金属化陶瓷结构及半导体量测设备”的专利，公开号CN120040199A，申请日期为2025年02月。
专利摘要显示，本发明公开了一种金属化陶瓷结构及半导体量测设备，金属化陶瓷结构包括绝缘体结构以及设置在绝缘体结构两端的金属结构；所述绝缘体结构包括陶瓷件，所述陶瓷件侧边设置有至少一个外凸环，每个所述外凸环外侧均设置有第一圆弧面，并且所述陶瓷件与所述外凸环的上方、下方之间设置有第二圆弧面。通过改变陶瓷件的结构，利用陶瓷件上设置的外凸环来增加爬电距离，无需加大电极件的距离，从而减小产品尺寸；所述陶瓷件两端均设置有焊接面，所述焊接面为平面，焊接面用于连接金属结构；所述金属结构包括金属件，所述金属件端部设置有与所述焊接面配合的圆环面。通过将金属件与陶瓷件连接在一起，实现金属化陶瓷。
天眼查资料显示，上海大尘微影半导体科技有限公司，成立于2020年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海大尘微影半导体科技有限公司财产线索方面有商标信息6条，专利信息29条，此外企业还拥有行政许可5个。
来源：金融界
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