志橙半导体取得反应腔及化学气相沉积设备专利，提高沉积效率
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2025-06-06 14:36:22
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金融界2025年6月6日消息，国家知识产权局信息显示，东莞市志橙半导体材料有限公司取得一项名为“一种反应腔以及化学气相沉积设备”的专利，授权公告号CN222948471U，申请日期为2024年08月。
专利摘要显示，本实用新型涉及一种反应腔，包括：腔室以及设置于所述腔室内的支架组件，所述支架组件用于支撑基体且能受驱绕第一轴向转动，所述支架组件包括分别设置于基体两侧的第一支架和第二支架，所述第一支架和所述第二支架绕第一轴向均设有匹配基体的弧形凹槽；当所述第一支架位于基体下方以支撑基体时，所述第二支架位于基体上方且不与基体接触，当所述第二支架位于基体下方以支撑基体时，所述第一支架位于基体上方且不与基体接触。本实用新型公开的反应腔避免了基体与支架组件接触部分的沉积盲区，只需进行一次开炉沉积即可完成对整个基体表面的沉积覆盖，而不需要进行二次开炉沉积，很大程度上提高了沉积效率，降低生产消耗。
天眼查资料显示，东莞市志橙半导体材料有限公司，成立于2018年，位于东莞市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，东莞市志橙半导体材料有限公司参与招投标项目10次，专利信息22条，此外企业还拥有行政许可12个。
来源：金融界
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