本源量子申请超导层制备等方法专利，提高超导层厚度均匀度
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2025-05-15 18:06:23
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金融界2025年4月29日消息，国家知识产权局信息显示，本源量子计算科技（合肥）股份有限公司申请一项名为“超导层的制备方法、约瑟夫森结的制备方法及量子电路”的专利，公开号CN119894357A，申请日期为2023年10月。
专利摘要显示，本发明公开了一种超导层的制备方法、约瑟夫森结的制备方法及量子电路，其中一种超导层的制造方法包括以下步骤：对形成于衬底上的掩膜层的第一沉积窗口，进行至少两次斜蒸发沉积，以形成超导层，其中，沉积窗口通过对掩膜层刻蚀或曝光显影形成；其中，每次所述斜蒸发的方向为被选择且不同的第一方向和第二方向；在所述至少两次斜蒸发中，沿第一方向的斜蒸发和沿第二方向的斜蒸发各自被执行至少一次、且各自被执行的次数被选择来组合以消除或降低仅从第一方向的斜蒸发或仅从第二方向斜蒸发所导致的超导层的厚度不均匀。本申请可以提高超导层在长度方向上的厚度的均匀度。
天眼查资料显示，本源量子计算科技（合肥）股份有限公司，成立于2017年，位于合肥市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本3000.0008万人民币。通过天眼查大数据分析，本源量子计算科技（合肥）股份有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目95次，财产线索方面有商标信息672条，专利信息1791条，此外企业还拥有行政许可5个。
来源：金融界
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