恒亦达申请半导体硅片全自动清洗干燥系统专利，实现清洗干燥一体化
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2025-06-12 09:06:04
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金融界2025年6月12日消息，国家知识产权局信息显示，恒亦达智能设备（苏州）有限公司申请一项名为“一种半导体硅片全自动清洗干燥系统”的专利，公开号CN120127030A，申请日期为2025年04月。
专利摘要显示，本发明公开了一种半导体硅片全自动清洗干燥系统，本发明涉及半导体生产技术领域。该半导体硅片全自动清洗干燥系统，包括机柜、方形管道、喷淋机构、加热机构，喷淋机构包括转动辊和泵体，转动辊的外圆面固定连接有圆轮，转动辊外圆面的中间处安装有喷液嘴，泵体顶部的出液口处连通有曲折管，曲折管与转动辊之间安装有转动连接器，加热机构包括加热器和连接输气管，连接输气管表面的底部与方形管道的底部之间固定连接有扭矩弹簧，连接输气管的顶端固定安装有摆动件，摆动件的顶部开设有排气孔，摆动件顶部的中间处固定连接有受力板，达到了清洗干燥目的，实现清洗干燥一体化，不易残留杂质和水渍，硅片处理效率高，安全可靠。
天眼查资料显示，恒亦达智能设备（苏州）有限公司，成立于2019年，位于苏州市，是一家以从事通用设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，恒亦达智能设备（苏州）有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目8次，财产线索方面有商标信息6条，专利信息27条，此外企业还拥有行政许可9个。
来源：金融界
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