无锡晶名光电取得清洗效率提高的晶片清洗设备专利,提高清洗效率
创始人
2025-06-13 16:39:01
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金融界2025年6月13日消息,国家知识产权局信息显示,无锡晶名光电科技有限公司取得一项名为“一种清洗效率提高的晶片清洗设备”的专利,授权公告号CN222980458U,申请日期为2024年07月。

专利摘要显示,本实用新型公开了一种清洗效率提高的晶片清洗设备,具体涉及半导体晶片加工技术领域,包括清洗箱,所述清洗箱内底部一侧设有超声波清洗器,所述清洗箱内设有清洗机构,所述清洗机构包括液压伸缩杆,且液压伸缩杆对称设置于清洗箱底部,两个所述液压伸缩杆的伸缩端于清洗箱内连接有清洗框,本实用新型通过清洗机构,可一次放置多个晶片进行清洗操作,提高清洗效率,并且能够驱动若干晶片跟随转轴同步转动,使其与清洗液均匀接触,并可利用喷孔喷出的清洗液产生的推力驱动横管带动转管转,使横管带动刷毛对晶片清扫处理,提高清洗效果,实用性强;通过固定组件配合液压伸缩杆,可方便拆装放置板,方便对晶片进行拿取,使用方便。

天眼查资料显示,无锡晶名光电科技有限公司,成立于2020年,位于无锡市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本410.67万人民币。通过天眼查大数据分析,无锡晶名光电科技有限公司参与招投标项目5次,专利信息31条,此外企业还拥有行政许可8个。

来源:金融界

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