无锡晶名光电取得清洗效率提高的晶片清洗设备专利，提高清洗效率
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2025-06-13 16:39:01
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金融界2025年6月13日消息，国家知识产权局信息显示，无锡晶名光电科技有限公司取得一项名为“一种清洗效率提高的晶片清洗设备”的专利，授权公告号CN222980458U，申请日期为2024年07月。
专利摘要显示，本实用新型公开了一种清洗效率提高的晶片清洗设备，具体涉及半导体晶片加工技术领域，包括清洗箱，所述清洗箱内底部一侧设有超声波清洗器，所述清洗箱内设有清洗机构，所述清洗机构包括液压伸缩杆，且液压伸缩杆对称设置于清洗箱底部，两个所述液压伸缩杆的伸缩端于清洗箱内连接有清洗框，本实用新型通过清洗机构，可一次放置多个晶片进行清洗操作，提高清洗效率，并且能够驱动若干晶片跟随转轴同步转动，使其与清洗液均匀接触，并可利用喷孔喷出的清洗液产生的推力驱动横管带动转管转，使横管带动刷毛对晶片清扫处理，提高清洗效果，实用性强；通过固定组件配合液压伸缩杆，可方便拆装放置板，方便对晶片进行拿取，使用方便。
天眼查资料显示，无锡晶名光电科技有限公司，成立于2020年，位于无锡市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本410.67万人民币。通过天眼查大数据分析，无锡晶名光电科技有限公司参与招投标项目5次，专利信息31条，此外企业还拥有行政许可8个。
来源：金融界
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