原速光电申请超黑纳米镀膜结构专利，有效扩大了基底材料的选择范围
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2025-06-14 10:03:07
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金融界2025年6月14日消息，国家知识产权局信息显示，深圳市原速光电科技有限公司申请一项名为“一种超黑纳米镀膜结构”的专利，公开号CN120143333A，申请日期为2025年05月。
专利摘要显示，本发明属于纳米镀膜技术领域，特别是涉及一种超黑纳米镀膜结构，包括基底、采用ALD沉积在所述基底表面的过渡层、采用ALD沉积在所述过渡层表面的吸光层和采用ALD沉积在所述吸光层表面的防腐层。相对于现有技术，本发明采用ALD技术实现低温（50‑250℃）制作高覆盖率、超低反（≤0.5%）高吸收效率（≥99.00%）、结合力较好的基底/过渡层（增加粘附力）/吸光层（多层干涉膜层）/防腐蚀层（单层或者多层）的超黑膜，有效扩大了基底材料的选择范围，解决了现在超黑膜的制作工艺对基底材料有较大限制，难以兼容薄膜的低温控制和高覆盖率、高吸收率的问题。
天眼查资料显示，深圳市原速光电科技有限公司，成立于2017年，位于深圳市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市原速光电科技有限公司参与招投标项目49次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息98条，此外企业还拥有行政许可13个。
来源：金融界
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