维普半导体申请一种掩模版条带配准方法专利，提高配准效率
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2025-06-14 18:11:42
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金融界2025年6月14日消息，国家知识产权局信息显示，常州维普半导体设备有限公司申请一项名为“一种掩模版条带配准方法”的专利，公开号CN120147293A，申请日期为2025年03月。
专利摘要显示，本发明公开了一种掩模版条带配准方法，方法的步骤中含有：建立子条带配准参考点数组；对子条带上划分的Mask图像和掩模版设计文件生成图进行配准，依次按像素步进滑动Mask图像以覆盖掩模板设计文件生成图上对应大小的局部图像；每次滑动后对Mask图像和对应的局部图像的每个像素点求差，预设粗略阈值，当求差后的差值绝对值小于粗略阈值时，对此处的差值进行赋0处理，然后将差值进行累计求和得粗略差值和，并保存至对应的粗略配准结果矩阵A中；粗略配准结果矩阵A中，差值和为0的位置赋一标记值，相邻条带配准时，每个子条带使用前一个条带配准参考点数组中对应子条带的配准结果进行配准；它能够缩小配准范围并能够缩短配准时间，提高配准效率。
天眼查资料显示，常州维普半导体设备有限公司，成立于2019年，位于常州市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本346.6326万人民币。通过天眼查大数据分析，常州维普半导体设备有限公司共对外投资了2家企业，专利信息24条，此外企业还拥有行政许可8个。
来源：金融界
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