SPTS科技申请物理气相沉积PVD设备和方法专利，供应到下部部分的RF功率电容耦合到上部部分
创始人
2025-06-25 12:19:52
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金融界2025年6月25日消息，国家知识产权局信息显示，SPTS科技有限公司申请一项名为“PVD设备和方法”的专利，公开号CN120193239A，申请日期为2024年06月。

专利摘要显示，根据本发明，提供一种物理气相沉积PVD设备，其包含：PVD腔室；目标；所述腔室中的衬底支撑件，所述衬底支撑件包含上部可旋转部分和下部固定部分，所述上部可旋转部分具有衬底可支撑于其上的上表面；RF源，其被配置成用于将具有RF功率的RF信号供应到所述下部部分；以及布置，其用于在所述腔室中执行的PVD工艺期间旋转所述上部部分；其中所述上部部分与所述下部部分间隔开，使得供应到所述下部部分的RF功率电容耦合到所述上部部分。

来源：金融界

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