金融界2025年8月5日消息,国家知识产权局信息显示,卡尔蔡司SMT有限责任公司取得一项名为“半导体光刻的投射曝光设备”的专利,授权公告号CN114514472B,申请日期为2020年09月。
来源:金融界
上一篇:中芯国际取得半导体结构的形成方法相关专利
下一篇:昕原半导体取得RRAM下电极结构等相关专利