金融界2025年5月24日消息,国家知识产权局信息显示,湖南融创微电子股份有限公司申请一项名为“低功耗小面积高PSR的全MOS电压基准电路及设备”的专利,公开号CN120029402A,申请日期为2025年02月。
专利摘要显示,本发明涉及低功耗小面积高PSR的全MOS电压基准电路及设备,通过在电路工艺上采用耗尽型MOS晶体管和增强型晶体管设计基准电流产生电路和核心基准电路,使其能够在较小的电路面积下产生微小的基准电流,而在核心电路结构上采用了全MOS晶体管的结构设计,大幅节省了电路的面积开销,并且设计了电源电压预处理电路来提供电源电压预处理,以有效提高全MOS电压基准电路的PSR,使其具备低功耗、面积小且高PSR的特点,最终实现低功耗小面积高PSR的电压基准电路设计的目的。
天眼查资料显示,湖南融创微电子股份有限公司,成立于2014年,位于长沙市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2696.2077万人民币。通过天眼查大数据分析,湖南融创微电子股份有限公司共对外投资了2家企业,参与招投标项目23次,财产线索方面有商标信息4条,专利信息56条,此外企业还拥有行政许可1个。
来源:金融界