上海本冶申请基于图像传感器的古建筑外墙面局部微创修复工艺专利，实现视觉上的无缝衔接
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2026-02-02 15:45:34
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国家知识产权局信息显示，上海本冶建设有限公司申请一项名为“基于图像传感器的古建筑外墙面局部微创修复工艺”的专利，公开号CN121429216A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明涉及文物保护与建筑修复技术领域，且公开了基于图像传感器的古建筑外墙面局部微创修复工艺，该工艺首先在古建筑外墙面关键区域布设高精度图像传感器，全面采集墙面的外观、结构及病害数据；经数据预处理后，生成毫米级精度的三维模型与病害分布图，再依据模型对轻微缺陷区进行浮尘清除与松散层微创预处理；对深层裂缝与空鼓部位实施靶向注浆修复；并利用传感器实时监测数据，对局部凸起或残留缝隙进行微米级精修，以确保修复面与周边原面过渡自然，最后结合原始墙面的纹理与颜色信息，对修复区域进行无痕着色与纹理复刻，实现视觉上的无缝衔接，完成古建筑外墙面的局部微创修复。
天眼查资料显示，上海本冶建设有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事建筑装饰、装修和其他建筑业为主的企业。企业注册资本26000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海本冶建设有限公司参与招投标项目170次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息21条，此外企业还拥有行政许可4个。
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来源：市场资讯
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