国家知识产权局信息显示,美光科技公司申请一项名为“竖直硫族化物存储器装置及方法”的专利,公开号CN121459887A,申请日期为2025年7月。
专利摘要显示,本申请涉及竖直硫族化物存储器装置及方法。本发明公开设备及方法,其包含硫族化物存储器胞元、半导体装置和系统。实例半导体装置及方法包含彼此电隔离的多个硫族化物材料插塞。所述多个硫族化物材料插塞电耦合于导电字线层与多个竖直数据线之间。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
来源:市场资讯
上一篇:先地图像申请曝光成像用图像处理方法专利,解决PCB板阻焊层曝光面图像涨缩变形和孔位不匹配问题
下一篇:嘉兴金田华睿超材料基金完成首笔投资,落子碳基晶圆龙头烯晶半导体