英特尔取得用于高级集成电路结构制造的蚀刻停止层形貌专利
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2026-02-13 10:15:47
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国家知识产权局信息显示，英特尔公司取得一项名为“用于高级集成电路结构制造的蚀刻停止层形貌”的专利，授权公告号CN109860101B，申请日期为2018年10月。

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