启真量子申请超导量子比特结构及其制备方法专利，有效抑制各向同性的氧化过程
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2026-03-04 09:44:52
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国家知识产权局信息显示，浙江启真量子科技有限公司申请一项名为“一种超导量子比特结构及其制备方法”的专利，公开号CN121604726A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明提供一种超导量子比特结构及其制备方法，该超导量子比特结构包括超导薄膜层，超导薄膜层的表面和侧壁覆盖有保护层。该制备方法包括：在衬底表面依次沉积超导层和涂覆光刻胶层；对光刻胶层进行图形化处理，再对暴露出的超导层进行刻蚀，并去除超导层表面的剩余光刻胶，得到超导薄膜层；在真空条件下去除所述超导薄膜层表面的氧化层，并在超导薄膜层表面和侧壁沉积保护层，得到超导量子比特结构。该超导量子比特结构的表面和侧壁全部覆盖有保护层，有效抑制各向同性的氧化过程，特别是解决了侧壁氧化这一关键问题。该制备方法与现有超导量子比特制备流程高度兼容，可便捷集成至已有生产线中。
天眼查资料显示，浙江启真量子科技有限公司，成立于2024年，位于杭州市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江启真量子科技有限公司参与招投标项目17次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息9条。
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