艾科半导体申请硅片清洗设备专利，提高清洗效果
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2026-03-06 19:22:44
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国家知识产权局信息显示，浙江艾科半导体设备有限公司申请一项名为“一种硅片清洗设备”的专利，公开号CN121620120A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明涉及半导体加工技术领域，具体公开了一种硅片清洗设备，包括：清洗槽；设置在清洗槽内的载台；与载台相连接的驱动部，所述驱动部用以带动载台做出竖直以及水平方向的往复直线运动；设置在载台上的支撑板，所述支撑板与载台之间为弹性连接，所述支撑板与载台可在水平方向发生相对位移；可分离的设置在支撑板上的清洗盒，所述清洗盒用以容纳多个硅片，所述清洗盒四侧均可供液体通过。本发明可带动硅片在清洗槽内进行升降以及水平位移，提高与清洗液的接触程度，由此提高清洗效果。
天眼查资料显示，浙江艾科半导体设备有限公司，成立于2019年，位于嘉兴市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本1250万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江艾科半导体设备有限公司财产线索方面有商标信息2条，专利信息34条。
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来源：市场资讯
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