国家知识产权局信息显示,长江存储科技有限责任公司申请一项名为“半导体器件、制作方法以及存储器系统”的专利,公开号CN121711990A,申请日期为2024年9月。
专利摘要显示,本公开实施例公开了一种半导体器件、制作方法以及存储器系统,所述半导体器件包括第一半导体结构,所述第一半导体结构包括:半导体层,包括有源区;所述半导体层在第一方向上具有相对设置的第一侧和第二侧;第一隔离结构,嵌设于所述半导体层中且在与所述第一方向相交的方向上围绕所述有源区;第一连接结构,沿所述第一方向贯穿所述第一隔离结构以及贯穿所述半导体层;第一互连层,位于所述半导体层的第一侧;所述第一连接结构与所述第一互连层耦接;焊盘,位于所述半导体层的第二侧;所述焊盘与所述第一连接结构耦接。
天眼查资料显示,长江存储科技有限责任公司,成立于2016年,位于武汉市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本12469608.0404万人民币。通过天眼查大数据分析,长江存储科技有限责任公司共对外投资了3家企业,参与招投标项目1431次,财产线索方面有商标信息975条,专利信息5000条,此外企业还拥有行政许可1005个。
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来源:市场资讯