国家知识产权局信息显示,武汉联拓新材料有限公司申请一项名为“半导体晶圆磨抛方法和半导体晶体制备方法”的专利,公开号CN121756183A,申请日期为2024年9月。
专利摘要显示,本申请涉及半导体晶圆磨抛方法、半导体晶体制备方法及光子计数CT扫描设备,半导体晶圆磨抛方法包括:将半导体晶圆、第一陪磨件和第二陪磨件均置于磨抛盘的磨抛面一侧;第一陪磨件的第一陪磨面和磨抛面的间距为d1,半导体晶圆的待加工面和磨抛面的间距为d2,第二陪磨件的第二陪磨面和磨抛面的间距为d3,使d1≤d2<d3;向磨抛盘中加入磨抛料,半导体晶圆和第一陪磨件的硬度均小于磨抛料的硬度,第二陪磨件的硬度不小于磨抛料的硬度;使磨抛面相对靠近第二陪磨面,且磨抛面在接触第一陪磨面后对第一陪磨件研磨抛光,并在接触待加工面后对半导体晶圆研磨抛光。该半导体晶圆磨抛方法能降低磨抛时半导体晶圆破损几率,提高磨抛后半导体晶圆的尺寸精度。
天眼查资料显示,武汉联拓新材料有限公司,成立于2022年,位于武汉市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本6000万人民币。通过天眼查大数据分析,武汉联拓新材料有限公司参与招投标项目6次,财产线索方面有商标信息1条,专利信息1条,此外企业还拥有行政许可2个。
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来源:市场资讯