湖北江城芯片申请生成模型训练及掩膜生成方法专利，获得目标掩膜生成模型
创始人
2026-04-13 15:42:28
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国家知识产权局信息显示，湖北江城芯片中试服务有限公司申请一项名为“生成模型训练、掩膜生成方法、装置、设备及存储介质”的专利，公开号CN121834339A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本申请提供了一种生成模型训练方法、掩膜生成方法、装置、设备及存储介质。该方法包括获取多个样本数据；利用多个样本数据和初始掩膜生成模型进行迭代训练获得目标掩膜生成模型，步骤包括：将某一样本数据对应的第一目标版图、第一光刻物理参数进行融合形成第一融合条件；将第一已知掩膜以及第一融合条件输入到初始掩膜生成模型进行预测得到第一预测掩膜，并计算第一损失；对第一预测掩膜进行光刻仿真得到第一预测晶圆图，且计算第二损失；根据第一损失和第二损失获得联合损失且使用联合损失更新初始掩膜生成模型的参数；重复上述步骤进行迭代训练，直到收敛或达到第一预设迭代次数，得到目标掩膜生成模型。
天眼查资料显示，湖北江城芯片中试服务有限公司，成立于2021年，位于武汉市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，湖北江城芯片中试服务有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目32次，财产线索方面有商标信息8条，专利信息124条，此外企业还拥有行政许可9个。
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