奥首材料申请高效半导体芯片清洗液及其制备方法与应用专利，对芯片具有优异的清洗效率
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2025-06-02 13:04:07
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金融界2025年6月2日消息，国家知识产权局信息显示，浙江奥首材料科技有限公司申请一项名为“一种高效半导体芯片清洗液及其制备方法与应用”的专利，公开号CN120059860A，申请日期为2025年01月。
专利摘要显示，本发明涉及一种高效半导体芯片清洗液，按照重量份计算，包括如下组分：胺类化合物20‑40份；缓蚀剂3‑10份；有机溶剂20‑45份；螯合剂0.1‑0.8份；超纯水15‑50份。本发明还公开上述清洗液的制备方法与用途。本发明采用的双羟香豆素和丹皮酚中均含有氢键供体和氢键受体，二者复配会产生氢键作用，由于二者之间的氢键作用，双羟香豆素和丹皮酚之间形成双环结构，除了双羟香豆素和丹皮酚的结构中的羟基和羰基可以络合铝离子外，二者协同后形成的双环结构也可以更好的与铝离子络合，对芯片具有优异的清洗效率。
来源：金融界
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