华虹宏力申请一种半导体存储装置及其制备方法专利，降低工艺成本
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2025-06-04 12:07:28
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金融界2025年6月4日消息，国家知识产权局信息显示，上海华虹宏力半导体制造有限公司申请一项名为“一种半导体存储装置及其制备方法”的专利，公开号CN120091564A，申请日期为2025年02月。
专利摘要显示，本发明提供了一种半导体存储装置及其制备方法，应用于半导体制备技术领域。在本发明中，通过在形成逻辑区中高压器件的栅极结构过程，同步在电阻区中形成多晶硅电阻器的多晶硅材料的方式，实现无需额外增加制程工艺的基础上，便可简化多晶硅电阻器的制造方法以及相应的多晶硅电阻器的结构的目的，并为减少硅化物阻止层的相关掩膜版提供了可行性，亦即降低了工艺成本和缩短了制造周期。
天眼查资料显示，上海华虹宏力半导体制造有限公司，成立于2013年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2046092.7759万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华虹宏力半导体制造有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目872次，财产线索方面有商标信息39条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可429个。
来源：金融界
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