上海积塔半导体取得一种外延设备专利，实现对外延设备密封性的实时监控_电子应用

上海积塔半导体取得一种外延设备专利，实现对外延设备密封性的实时监控

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2025-05-21 01:03:22

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金融界2025年5月20日消息，国家知识产权局信息显示，上海积塔半导体有限公司取得一项名为“一种外延设备”的专利，授权公告号CN222878156U，申请日期为2024年08月。

专利摘要显示，本申请属于半导体设备技术领域，提供一种外延设备，包括下顶盖、上顶盖、基座环和旋转外壳，上顶盖与下顶盖之间围成工作腔室，基座环环绕工作腔室并位于上顶盖与下顶盖之间，工作腔室内设置有放置基片的基座，基座环中设置有第一检测通路和第二检测通路，第一检测通路和第二检测通路均经真空管路连接至数显压力开关，旋转外壳连接至下顶盖的下方，旋转外壳具有经真空管路连接至数显压力开关的第三检测通路，数显压力开关能够实时监测真空通路的真空度，通过真空度的数值，能够实时反应设备的密封状态，并能够判断数显压力开关的可靠性，实现了对外延设备密封性的实时监控，提高了检测结果的可靠性，降低了泄漏风险，并提高了装机效率。

天眼查资料显示，上海积塔半导体有限公司，成立于2017年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1690740.3918万人民币。通过天眼查大数据分析，上海积塔半导体有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目1818次，财产线索方面有商标信息9条，专利信息1090条，此外企业还拥有行政许可191个。

来源：金融界

企业顶盖实时基座通路设备压力外延导体专利

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