浙江创芯申请半导体电极清洗装置专利，显著提升电极的清洁度
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2025-12-04 15:37:15
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国家知识产权局信息显示，浙江创芯集成电路有限公司申请一项名为“半导体电极清洗装置”的专利，公开号CN 121042293 A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本发明提供一种半导体电极清洗装置，包括电极、清洗组件及动力单元；其中，清洗组件包括喷头、连接管及储液单元，且连接管连接储液单元与喷头，喷头设置于电极的外围且显露电极，通过储液单元向喷头提供清洗电极的清洗液；动力单元与清洗组件连接，通过动力单元向清洗液提供清洗动力。本发明的半导体电极清洗装置可显著提升电极的清洁度、延长电极的使用寿命。
天眼查资料显示，浙江创芯集成电路有限公司，成立于2020年，位于杭州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本182000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江创芯集成电路有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目269次，财产线索方面有商标信息14条，专利信息482条，此外企业还拥有行政许可7个。
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来源：市场资讯
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