物元半导体申请抗反射涂层、半导体结构及其制备方法专利，从根本上解决异质材料界面因应力和附着力不足的问题_电子应用

物元半导体申请抗反射涂层、半导体结构及其制备方法专利，从根本上解决异质材料界面因应力和附着力不足的问题

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2025-12-04 22:37:00

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国家知识产权局信息显示，物元半导体技术（青岛）有限公司申请一项名为“一种抗反射涂层、半导体结构及其制备方法”的专利，公开号CN 121050181 A，申请日期为2025年10月。专利摘要显示，本发明提供一种抗反射涂层、半导体结构及其制备方法，本发明的梯度交联密度的抗反射涂层包括：高交联底层，配置为与覆盖金属沉积层的疏水层接触形成交联，所述高交联底层的交联密度大于或等于90 %；低交联顶层，配置为与光阻层接触形成交联，所述低交联顶层的交联密度介于50 %~70 %之间；其中所述抗反射涂层的交联密度自所述高交联底层指向所述低交联顶层方向，交联密度呈梯度递减。在金属沉积层和光阻层之间形成一个在机械性能和化学性质上平稳过渡的界面。不仅高效抑制光反射和驻波效应，更从根本上解决了异质材料界面因应力和附着力不足的问题。

天眼查资料显示，物元半导体技术（青岛）有限公司，成立于2022年，位于青岛市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本45000万人民币。通过天眼查大数据分析，物元半导体技术（青岛）有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目1次，专利信息118条，此外企业还拥有行政许可12个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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