和辉光电申请叠层OLED器件专利，大大降低横向串扰
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2025-12-05 18:08:29
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国家知识产权局信息显示，上海和辉光电股份有限公司申请一项名为“叠层OLED器件”的专利，公开号CN121078901A，申请日期为2024年6月。专利摘要显示，本发明公开了一种叠层OLED器件，包括阳极层；空穴注入层，形成于阳极层一侧；第一发光层，形成于空穴注入层远离阳极层的一侧；电荷生成层，形成于第一发光层远离阳极层的一侧，包括各向异性层、N型电荷生成层和位于N型电荷生成层远离阳极层一侧的P型电荷生成层，N型电荷生成层和P型电荷生成层交界处形成分界面；各向异性层位于N型电荷生成层或P型电荷生成层内靠近分界面的一侧，且在分界面的至少部分表面上结晶形成多个互相独立的图案；第二发光层，形成于电荷生成层远离阳极层的一侧。本发明的叠层OLED器件，各向异性层使得载流子可在纵向上正常穿过，同时阻断了载流子横向移动，从而大大降低了横向串扰，提高了显示质量。
天眼查资料显示，上海和辉光电股份有限公司，成立于2012年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1380943.7625万人民币。通过天眼查大数据分析，上海和辉光电股份有限公司参与招投标项目277次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息1978条，此外企业还拥有行政许可498个。
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来源：市场资讯
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