芯晟半导体取得光电辅助PECVD沉积设备专利，提高整体的离化率
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2025-12-29 10:07:51
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国家知识产权局信息显示，浙江芯晟半导体科技有限责任公司取得一项名为“一种光电辅助的PECVD沉积设备”的专利，授权公告号CN223723217U，申请日期为2025年2月。
专利摘要显示，本实用新型涉及一种光电辅助的PECVD沉积设备，其特征在于，包括框体，所述框体内设有腔室，所述腔室设有作为下电极的加热底座，所述加热底座用于承载基片，所述加热底座的上方设有作为上电极的上盖板，所述上盖板用于对通入腔室的驱体气体进行分流，所述上盖板可与加热底座相互呼应形成频射电场，以对驱体气体进行电离，所述加热底座附近设有交变磁场，所述交变磁场用于带动带电粒子横向运动，以扩大带电粒子运动轨迹，增加带电粒子与气体分子产生碰撞离化的概率。本实用新型具有以下优点和效果：能够保证成本的同时，提高整体的离化率。
天眼查资料显示，浙江芯晟半导体科技有限责任公司，成立于2023年，位于嘉兴市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本202000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江芯晟半导体科技有限责任公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目168次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息44条，此外企业还拥有行政许可8个。
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来源：市场资讯
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