铭沣科技申请芯片表面缺陷检测方法、电子设备及可读介质专利，实现IPM芯片区域在亮度复杂背景下的高精度脏污缺陷提取_资源案例

铭沣科技申请芯片表面缺陷检测方法、电子设备及可读介质专利，实现IPM芯片区域在亮度复杂背景下的高精度脏污缺陷提取

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2025-11-29 16:07:34

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国家知识产权局信息显示，上海铭沣科技股份有限公司申请一项名为“一种芯片表面缺陷检测方法、电子设备及可读介质”的专利，公开号CN121033048A，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本发明公开了一种芯片表面缺陷检测方法、电子设备及可读介质，方法包含如下：通过仿射变换将参考图像的ROI与测试图像进行对齐；获取参考图像的ROI与对齐后的测试图像的ROI的灰度均值，基于灰度均值对测试图像进行灰度拉伸归一化处理；对归一化处理后的参考图像和测试图像分别进行均值滤波，并进行差分运算，得到差分图像；对差分图像进行基于阈值的二值分割，提取亮缺陷和暗缺陷的表面检测候选区域，并对表面检测候选区域进行形态学腐蚀操作以抑制噪声，生成最终缺陷掩膜；将最终缺陷掩膜中的缺陷区域通过仿射变换的逆变换映射回原始测试图像坐标系中。本发明能够实现IPM芯片区域在亮度复杂背景下的高精度脏污缺陷提取，适用于各种复杂封装工况。

天眼查资料显示，上海铭沣科技股份有限公司，成立于2006年，位于上海市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海铭沣科技股份有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目15次，财产线索方面有商标信息30条，专利信息71条，此外企业还拥有行政许可4个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业进行亮度缺陷投资检测介质芯片图像电子设备灰度均值掩膜

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