国家知识产权局信息显示,铠侠股份有限公司申请一项名为“半导体存储装置”的专利,公开号CN121712020A,申请日期为2025年3月。
专利摘要显示,提供能高集成化的半导体存储装置。半导体存储装置具备:半导体衬底;及存储单元阵列层,在与半导体衬底的表面交叉的第1方向上分开设置。存储单元阵列层具备:第1及第2积层构造,在与第1方向交叉的第2方向上排列;及第3积层构造,设置在第1及第2积层构造间。第1、第2及第3积层构造具备在第1方向上交替积层且沿着与第1及第2方向交叉的第3方向延伸的多个第1层及多个第1绝缘层。第1及第2积层构造具备在第2方向上排列的多个块。多个块具备沿着第1方向延伸且与多个第1层对向的第1半导体层。多个块中除最接近第3积层构造的第1块以外的多个块在第1层包含第1导电层。第3积层构造及第1块中,第1层为第2绝缘层。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
来源:市场资讯
下一篇:国内380V稳压器指南