江苏山水半导体申请用于硅片精抛的超纯净抛光液专利，实现表面粗糙度更小
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2025-12-31 11:10:36
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国家知识产权局信息显示，江苏山水半导体材料有限公司申请一项名为“一种用于硅片精抛的超纯净抛光液及其制备方法”的专利，公开号CN121227217A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本发明涉及抛光液制备技术领域，具体为一种用于硅片精抛的超纯净抛光液及其制备方法，其由如下重量份原料组成：纳米氢化金刚石：0.5‑0.8份；氧化锆包覆氧化铝：1.2‑1.5份；硼酸镁纳米线：0.002‑0.004份；高碘酸钠；0.4‑0.6份：超纯水：96.0‑97.2份。本发明采用纳米氢化金刚石、立方氮化硼以及氧化锆包覆氧化铝三元磨料体系，结合全有机无金属添加剂从源头消除金属污染路径，同时，通过电化学纯化与声磁共振分散技术实现磨料单分散性和纯净度的协同控制，最终在硅片精抛中实现表面粗糙度更小、金属污染更低，较传统工艺抛光速率提升更大，且储存稳定性达180天无沉降，适用于各种硅片精抛的应用场景。
天眼查资料显示，江苏山水半导体材料有限公司，成立于2020年，位于无锡市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3236.04万人民币。通过天眼查大数据分析，江苏山水半导体材料有限公司参与招投标项目6次，专利信息44条，此外企业还拥有行政许可13个。
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来源：市场资讯
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