华丞电子申请液位测量装置和液位测量方法专利，为半导体加工领域提供较为精准的液位测量功能
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2025-06-09 13:06:50
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金融界 2025 年 6 月 9 日消息，国家知识产权局信息显示，北京华丞电子有限公司申请一项名为“液位测量装置和液位测量方法”的专利，公开号 CN120101902A，申请日期为 2025 年 02 月。
专利摘要显示，本申请公开一种液位测量装置和液位测量方法，属于半导体加工技术领域，液位测量装置中，输入管路与气源连通，输入管路的底端用以伸入至待测容器中液体的液面以下，限流器件安装于输入管路，限流器件用于限制气源经输入管路输入至液体中的气体的压力为第一预设压力，输出管路的第一端与大气连通，输出管路的第二端伸入至容器中，且位于液体的液面以上；输入管路和输出管路均与压力测量器件配合，控制器用于控制压力测量器件测量输入管路和输出管路中气体之间的压力差，控制器还用以基于压力差确定输入管路的底端与待测容器内液体的液面之间的高度差。
天眼查资料显示，北京华丞电子有限公司，成立于2017年，位于北京市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本2090.584311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京华丞电子有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目124次，财产线索方面有商标信息16条，专利信息214条，此外企业还拥有行政许可43个。
来源：金融界
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