旭灿半导体等申请制备高纯致密碳化硅陶瓷专利,确保材料高纯度与致密度
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2025-08-06 14:39:31
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金融界2025年8月6日消息,国家知识产权局信息显示,北京旭灿半导体科技有限公司、北京中企祥科技有限公司申请一项名为“一种制备高纯致密碳化硅陶瓷的方法及专用装置”的专利,公开号CN120423882A,申请日期为2025年04月。

专利摘要显示,本发明涉及碳化硅陶瓷制备领域,尤其涉及一种制备高纯致密碳化硅陶瓷的方法及专用装置。将碳化硅和炭黑粉体混合并预处理得到松装造粒粉,然后通过干压成型获得坯体,并进行排胶处理。接着,按照特定比例混合高纯硅粉和碳化硅粉制备混合原料。将无胶坯体放置在气相沉积区,混合原料置于原料区,并调整高温炉内环境。初次加热至1950‑2150℃并降低压力进行反应,随后二次加热到2200‑2450℃,控制压力及温度梯度完成气相沉积。最后,在2100‑2200℃下退火保温并缓慢冷却至室温,得到最终产品。此工艺确保了材料的高纯度与致密度,能够应用反射镜、半导体、集成电路和光伏等高洁净工况环境,从而实现更高应用价值。

天眼查资料显示,北京旭灿半导体科技有限公司,成立于2023年,位于北京市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本100万人民币。通过天眼查大数据分析,北京旭灿半导体科技有限公司专利信息30条,此外企业还拥有行政许可2个。

北京中企祥科技有限公司,成立于2022年,位于北京市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本4000万人民币。通过天眼查大数据分析,北京中企祥科技有限公司专利信息119条,此外企业还拥有行政许可1个。

来源:金融界

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