上海健照半导体取得光刻机上版架结构专利，提高吸附的均匀性和稳定性
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2025-05-30 09:33:53
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金融界2025年5月30日消息，国家知识产权局信息显示，上海健照半导体科技有限公司取得一项名为“一种光刻机上版架结构”的专利，授权公告号CN222914031U，申请日期为2024年07月。
专利摘要显示，本实用新型提供一种光刻机上版架结构，涉及光刻机上版架技术领域，包括：板架本体，所述板架本体的内表面设置有真空腔，所述真空腔的内顶部均匀开设有多个第一吸附孔，所述板架本体的外表面对称固定连接有接头。本实用新型中，通过限位块、第一吸附孔、第二吸附孔、真空腔、连接管、集气管、真空泵、出气管和吸附板的配合下，可以对掩膜板进行真空吸附，且通过隔板可以对真空腔分隔处理，从而通过两个连接管同时吸附，有助于保持真空腔内负压的均匀分布，从而提高吸附的均匀性和稳定性，通过对掩膜板的真空吸附，不仅拆装方便，而且无需直接接触掩膜板表面，避免了划痕和变形的风险，保护了掩膜板的完整性。
天眼查资料显示，上海健照半导体科技有限公司，成立于2018年，位于上海市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，上海健照半导体科技有限公司专利信息10条。
来源：金融界
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