浙江晶诚新材料申请碳化硅涂层石墨基座及其制备方法与应用专利，提高碳化硅涂层的致密性以及在石墨基座中的嵌入深度
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2025-06-14 19:11:11
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金融界2025年6月14日消息，国家知识产权局信息显示，浙江晶诚新材料有限公司申请一项名为“碳化硅涂层石墨基座及其制备方法与应用”的专利，公开号CN120136573A，申请日期为2024年08月。
专利摘要显示，本发明涉及一种碳化硅涂层石墨基座及其制备方法与应用，该碳化硅涂层石墨基座的制备方法，包括以下步骤：将含硅粉体以及石墨基座置于反应容器中，含硅粉体选自SiO粉体或Si粉中的一种；对反应容器进行抽真空处理，向反应容器中通入CO气体并加热，CO气体与含硅粉体挥发形成的含硅气体进行化学气相反应，在石墨基座表面形成碳化硅涂层，其中，向反应容器中通入CO气体并加热的步骤中，反应容器的温度大于1400℃，CO气体的流量小于800sccm。
天眼查资料显示，浙江晶诚新材料有限公司，成立于2022年，位于绍兴市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江晶诚新材料有限公司参与招投标项目3次，专利信息5条，此外企业还拥有行政许可2个。
来源：金融界
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