友辉光电申请曝光设备专利，提高曝光质量
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2025-11-24 09:36:46
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国家知识产权局信息显示，东莞市友辉光电科技有限公司申请一项名为“曝光设备”的专利，公开号CN 120993681 A，申请日期为2025年8月。专利摘要显示，本申请涉及一种曝光设备，属于曝光机领域，用于带状物料双面曝光，其包括掩模装置、两个输料装置和一对光照装置，所述掩模装置包括两个掩模机构，所述掩模机构包括掩模组件，两个掩模机构的掩模组件间隔对称设置并适于紧密贴合，以将带状物料的其中一段夹紧密封。本申请的曝光设备的掩模组件通过在掩模框上设置吸气孔，当两个掩模组件将待曝光物料夹住并紧密贴合后，借助吸气孔抽取两个掩模组件之间的空气，使待曝光物料和掩模版真空吸附紧贴在一起，从而提高曝光质量，减小投影误差，同时也不会引起掩膜版本身发生形变。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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