拓荆创益取得用于半导体工艺的紫外线灯及半导体工艺设备专利
创始人
2025-11-24 18:09:10
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国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司取得一项名为“一种用于半导体工艺的紫外线灯及半导体工艺设备”的专利，授权公告号CN 119049955 B，申请日期为2023年11月。
天眼查资料显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司，成立于2023年，位于沈阳市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司参与招投标项目17次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息388条，此外企业还拥有行政许可15个。
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来源：市场资讯
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