国家知识产权局信息显示,格科半导体(上海)有限公司申请一项名为“一种图像传感器的离子注入工艺”的专利,公开号CN121358184A,申请日期为2024年6月。
专利摘要显示,本发明公开了一种图像传感器的离子注入工艺,包括:提供一离子注入机台;所述离子注入机台连续运行第一时间的第n离子注入工序,所述n取正整数;基于所述第一时间的第n离子注入工序,所述离子注入机台自动切源,连续运行第二时间的第n+1离子注入工序;所述第n离子注入工序、第n+1离子注入工序分别独立地选自P型离子注入工序、N型离子注入工序或D型离子注入工序中的任意一种;所述第n离子注入工序不同于所述第n+1离子注入工序;所述P型离子注入工序的离子束包含二氟化硼和/或硼,所述N型离子注入工序的离子束包含砷和/或磷,所述D型离子注入工序的离子束包含铟。通过上述工艺,本发明实现了图像传感器生产效率以及低亮白点性能的提高。
天眼查资料显示,格科半导体(上海)有限公司,成立于2020年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本700000万人民币。通过天眼查大数据分析,格科半导体(上海)有限公司参与招投标项目21次,专利信息134条,此外企业还拥有行政许可90个。
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来源:市场资讯