上海叠铖光电申请图像传感器结构及其制备方法专利，扩展图像传感器响应光谱范围
创始人
2025-07-16 21:10:48
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金融界 2025年7月16日消息，国家知识产权局信息显示，上海叠铖光电科技有限公司申请一项名为“一种图像传感器结构及其制备方法”的专利，公开号 CN120322036A，申请日期为 2024 年 01 月。
专利摘要显示，本发明提供一种图像传感器结构及其制备方法，第一图像传感器芯片的第一工作层在第一衬底上，第一工作层响应光谱为第一光谱段；对第一衬底离子注入使第一衬底可透过第二光谱段光线；第一衬底远离第一工作层的一面设置包括第二工作层的第二图像传感器芯片，第二工作层响应光谱为第二光谱段。本发明通过离子注入调整第一衬底可透过光谱范围与响应该光谱的图像传感器堆叠，扩展图像传感器响应光谱范围，提高图像传感器识别率；同时利用图像传感器自身的第一衬底实现响应光谱扩展，不占用额外空间；另外通过调整对离子注入顺序、类型、浓度比例和能量精确调整图像传感器响应光谱的扩展范围；最后利用激光扫描激活第一衬底，避免影响工作层。
天眼查资料显示，上海叠铖光电科技有限公司，成立于2021年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本141.5247万人民币。通过天眼查大数据分析，上海叠铖光电科技有限公司共对外投资了1家企业，专利信息11条，此外企业还拥有行政许可2个。
来源：金融界
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