光舟半导体申请波导结构和反射膜制备方法专利，降低另一方向的光泄漏_电子技术

光舟半导体申请波导结构和反射膜制备方法专利，降低另一方向的光泄漏

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2025-08-04 11:13:54

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金融界2025年8月4日消息，国家知识产权局信息显示，深圳市光舟半导体技术有限公司申请一项名为“一种波导结构和反射膜的制备方法”的专利，公开号CN120405842A，申请日期为2025年06月。

专利摘要显示，本申请提供一种波导结构和反射膜的制备方法，涉及衍射光波导技术领域，包括光波导，光波导至少包括入瞳区域和出瞳区域，入瞳区域和出瞳区域分别具有入瞳光栅和出瞳光栅，出瞳区域上设置有第一反射膜，第一反射膜对应出瞳光栅的不同区域的反射率不同，在出瞳光栅的同一区域内第一反射膜的反射率为r，出瞳光栅的衍射效率为d，r+d＝a，a为定值。第一反射膜为分区域反射膜，其反射率依据出瞳光栅不同区域的衍射效率设计，使出射光主要集中于用户眼部方向，降低另一方向的光泄漏，改善图像亮度均匀性和提高隐私性，保证人眼方向光线输出的同时，有效抑制向非目标方向的能量泄露；改善耦出能量分布状态，提升显示图像的整体亮度和亮度均匀性。

天眼查资料显示，深圳市光舟半导体技术有限公司，成立于2020年，位于深圳市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本353.7285万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市光舟半导体技术有限公司共对外投资了2家企业，财产线索方面有商标信息31条，专利信息172条，此外企业还拥有行政许可10个。

来源：金融界

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