为旌半导体申请图像处理方法及装置、存储介质专利，自适应处理图像的局部纹理
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2025-06-04 19:06:56
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金融界2025年6月4日消息，国家知识产权局信息显示，上海为旌半导体有限公司申请一项名为“图像处理方法及装置、存储介质”的专利，公开号CN120088161A，申请日期为2025年02月。
专利摘要显示，本申请提出一种图像处理方法及装置、存储介质。该方法包括：获取原始图像的Y、U及V分量；分别对Y、U及V分量进行多次第一滤波处理，以对应得到多个平滑程度的图像；根据预设阈值计算各个平滑程度对应的Y、U及V分量的纹理强度；对各个平滑程度对应的Y、U及V分量分别进行第二滤波处理；根据纹理强度将经过第二滤波处理后的图像与对应平滑程度的图像进行融合，以得到去噪的目标图像。基于此，本申请可以自适应处理图像的局部纹理，在保留纹理和去除噪声之间达到平衡，确保去噪后的图像质量，并且可以通过调整预设阈值来调节去噪强度，另外纹理强度是根据滤波处理的结果得到，可以减少计算时间、硬件实现面积及运行功耗。
天眼查资料显示，上海为旌半导体有限公司，成立于2024年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海为旌半导体有限公司专利信息13条，此外企业还拥有行政许可1个。
来源：金融界
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